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LCPベース(サブトラクティブプロセス用)

無粗化銅箔とLCPフィルムを積層、界面平滑で高周波特性に優れたFCCL

  • 提供幅:最大510mm
  • 形態:ロール、シート
LCPベース フレキシブル銅張積層板(サブトラクティブプロセス用)

構成

サブトラクティブプロセス用:構成

低伝送損失を実現

低伝送損失を実現

サブトラクティブ法で良好な配線形状を実現

サブトラクティブ法で良好な配線形状を実現

一般特性

項目条件無粗化銅箔FCCL
導体引き剥がし強さ(N/mm)18μm圧延銅箔、室温下0.6
伸び38%13%
誘電正接開放型共振ファブリペロー法
28GHz
0.002
比誘電率3.3
はんだ耐熱288℃、10秒異常なし

上記データは当社測定による代表値であり、保証値ではありません

LCPベース(キャリア付極薄銅箔積層/微細配線用)

キャリア付極薄銅箔とLCPを積層、MSAP適用可能なFCCL

キャリア銅箔を容易かつ均一に剥離可能です。

  • 提供幅:最大510mm
  • 形態:ロール、シート
LCPベース(キャリア付極薄銅箔積層/微細配線用)

構成

キャリア付極薄銅箔積層/微細配線用:構成

極薄銅層の積層を低粗度で実現

従来仕様:Rz 1.3μm
キャリア銅箔剥離後断面
従来仕様 Rz:1.3μm*
低粗度仕様:Rz 0.9μm
キャリア銅箔剥離後断面
低粗度仕様 Rz:0.9μm*

銅箔メーカー公称粗度

MSAPによる微細配線を実現

MSAPによる微細配線を実現

一般特性

項目条件キャリア付銅箔FCCL
導体引き
剥がし強さ
18μm厚 めっき後
室温下
JIS C 6481
1.0 N/mm
キャリア銅箔
剥離強度
室温下0.03 N/mm
誘電正接開放型共振
ファブリペロー法
28GHz
0.002
比誘電率3.3
はんだ耐熱288℃、10秒異常なし

上記データは当社測定による代表値であり、保証値ではありません

LCPベース(極薄めっき/微細配線用)

LCP上に0.1~0.3μmの極薄の銅を無電解めっきにより積層
微細配線加工が可能で高周波特性に優れるFCCL

極薄銅層(0.1~0.3μm)を界面平滑で実現

LCPベース(極薄めっき/微細配線用)

構成

極薄銅層

界面平滑化による優れた高周波特性を実現

界面平滑化による優れた高周波特性を実現

SAPによる微細配線を実現

SAPによる微細配線を実現

一般特性

項目条件無電解銅めっき(FCCL)
導体
引き剥がし強さ
18μm厚めっき後
室温下
0.7 N/mm
18μm厚めっき後
150℃×168時間後
0.7 N/mm
誘電正接開放型共振
ファブリペロー法
28GHz
0.002
比誘電率3.3
はんだ耐熱260℃、5秒異常なし

上記データは当社測定による代表値であり、保証値ではありません

製品に関するお問い合わせ

マーケティング部 マーケティンググループ

電話:03-4531-6864